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2023-07-19 12:04

展商精选丨晶洲装备，高端湿制程装备工艺推动新型显示供应链建设

来源：世展网分类：显示行业资讯 2023-07-06 11:32 阅读：5882

2025年深圳商用显示技术展COMMERCIAL DISPLAY

2025-10-28-10-30

距离160天

收录于话题

#DIC 2023展商精选 #晶洲装备

公司简介

苏州晶洲装备科技有限公司（展位号：特5F18）2011年成立于苏州常熟高新技术产业开发区辛庄工业园，业务范围集研发、设计、制造、销售及售后为一体，专注于平板显示、光伏、半导体领域的高精密清洗、显影、湿法刻蚀、光阻剥离等高端湿制程设备的生产及研发，并同步延伸相配套的环保及智能数据，如废液在线回收系统、机器人运用等关键自动化系统，是一家具备高新技术企业资质的高端湿制程装备及工艺技术综合解决方案提供商。

推荐产品

苏州晶洲装备科技有限公司以国际视野、国产装备为企业口号，在平板显示领域，从清洗、显影、刻蚀，到剥离、蒸镀前清洗，提供了切实有效的解决方案，以G8.5湿法刻蚀设备为代表，研发出清洗机、显影机、湿法刻蚀机、光阻剥离机、掩模版清洗机等一系列湿制程主工艺设备。产品优势：

项目	晶洲产品	进口装备
刻蚀速率均一性	≥92%	≥90%
刻蚀线宽均一性	≥92%	≥90%
线宽误差	±0.8μm	±0.8μm

清洗机cleaner成膜前清洗，直径大于1μm的颗粒物不能超过100颗，以确保制造良率，单张基板需清洗30次以上，占面板制程总工序约30%。

清洗机适用工艺：INC/UPC，DKC，DIC，BPC，ODF……适用基板尺寸：All Size适用基板厚度：≥0.3mm清洗方式：UV/AP，DB/RB Brush，HP，BJ/SJ，HPMJ，MS，IR……设备类型：I Type，U Type，Line Type，Custom Made工艺指标：Contact Angle；Particle Removal Rate；ESD Control；No Mura，No Roller Mark，No Contamination And No Scratch；Low Running Cost显影机Developer将曝光后的光阻溶解于显影液后用去离子水冲洗干净，以定义膜层图形，单张基板需显影5次以上，占面板制程总工序约10%。

显影机

适用工艺：CF、Array、TP适用基板尺寸：All Size适用基板厚度：≥0.3mm显影类型：Oscilation Type Shower设备类型：I Type，U Type，Line Type，Custom Made工艺能力：1.High Uniformity Ultra-low Pressure Spray；2.Excellent Process Reliability，High CD Uniformity；3.Defoaming Management；4.No Mist, No Roller Mark, No Contamination And No Scratch；

5.Low Running Cost.

湿法刻蚀机Wet Etcher

将曝光后的光阻溶解于显影液后用去离子水冲洗干净，以定义膜层图形，单张基板需显影5次以上，占面板制程总工序约10%。单张基板需刻蚀3次以上，占面板制程总工序约5%。

湿法蚀刻机

适用工艺：ITO、IGZO、Ag、Mo、Al、Cu、Rework……

适用基板尺寸：All Size

适用基板厚度：≥0.3mm

刻蚀类型：Multi-angle Oscilation Type Shower / Dip

设备类型：I Type，U Type，Line Type，Custom Made

工艺能力：

1.Within Glass、Glass To Glass、Lot To Lot；

2.No Mura, No Roller Mark, No Contamination and No Scratch；