展商动态｜晶洲装备国产首台氢氟酸清洗(HF Cleaner)量产设备顺利搬入

4月16日，随着起重机的缓缓升起，苏州晶洲装备科技有限公司自主研发生产的国产首台氢氟酸清洗(HF Cleaner)设备在客户端被吊装至对接平台，随即推入厂房，顺利搬入。晶洲装备对该设备的顺利搬入表示衷心的祝福，希望在后续的建设过程中，可以用更优质的服务为客户的生产提供助力！

氢氟酸清洗作为显示制程中的关键环节，其清洗效果直接影响到器件结构的最终性能、效率与稳定性，关系到最终产品的良品率。氢氟酸清洗不仅要去除有源层表面的杂质而且要使表面钝化，从而减少界面杂质的吸附能力，对表面的洁净度要求非常严格，理论上不允许存在任何颗粒、金属离子、有机粘附、水汽以及氧化层，对表面要求具备原子级的平坦度，保障后制程的工艺可靠性。

晶洲装备一直以创新谋发展，坚持推动产业链上游装备国产化，以完善稳定产业供应链为目标，全面打通了阵列(Array)、蒸镀(OLED)、成盒(CELL)、彩膜(CF)、触控(TSP)各工序湿法装备应用，完成了G2.5-G10.5全系列湿法装备应用布局。发展至今，晶洲在显示面板湿制程装备技术上取得一系列成果荣誉，这离不开客户的需求引导和技术支持；客户的认可，是对晶洲装备多年来在湿制程装备领域努力耕耘的最大肯定，晶洲将在此基础上，继续努力，坚持长期主义，以创新谋发展，助推新兴显示产业高质量发展。

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