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公司简介
福建中融科技有限公司(展位号:特7D56)成立于 2015年11 月,总部位于福建福州软件园,专注于湿电子化学品生产、应用、研发、服务,拥有自主核心技术知识产权专利及领先商业模式中国电子新材料领跑者。是一家专注于湿电子危废再生循环利用的国家高新技术企业、国家专精特新“小巨人”企业,是中国电子材料国产取代进口的先驱。
公司秉承环保、创新、共享理念,致力于面板、半导体、光伏、新能源等领域湿电子化学品一站式服务。主要产品有剥离液、蚀刻液、稀释剂、NMP等,目前公司是国内第一家,也是唯一一家能够提供湿电子化学品材料全生命周期管理的企业(废液回收、在线提纯、新液混配过滤再直接回供)。
主营产品
公司主营产品剥离液、蚀刻液、稀释剂、NMP、显影液等在显示面板产业链环节中有着重要应用。
剥离液
主要应用于平板显示器件产业的正性光刻胶的光阻剥离工艺,因不同光阻和不同金属层对剥离液的组份及配比也有着非常高的要求,该工艺使用多种不同配方从而多方面迎合液晶平板市场生产的各项需求。同时该产品也用于6英寸以上半导体正性胶光阻剥膜工艺广泛应用,改变高端化学品全部进口的局面。蚀刻液
超高纯ITO主要用于平板显示器件的ITO基板工艺,因不同的ITO工艺对蚀刻液的要求各不相同,在ITO蚀刻液的选型也配置了多种不同类型的产品工艺线路。在ITO蚀刻工艺中可以在使用寿命、腐蚀速率、残留率等方面很好地做到平衡。稀释剂
主要用于半导体6~12寸芯片制造工艺中边缘图形处理,其对稀释剂的配比和纯度有非常高的要求。该工艺制得产品可以达到10ppb以下,完全可以取代目前全部依赖进口的局面。同时该产品也大量应用于液晶平板显示制造行业,在目前2.5代工艺以上制造线均大量需求高品质的正胶稀释剂,该工艺生产的产品可以满足半导体及FPD产业的需求,改变高端化学品全部进口的局面。NMP
N—甲基吡咯烷桐(NMP)是一种高度极性的,apriotic,常用的有机溶剂。它是一种无色,有微弱胺气味的低黏度液体,并且完全与水互溶。可用于IC半导体行业精密仪器、LCD液晶材料、PCB印刷线路板等的清洗。公司是国内第一个实现锂电池消费电池领域NMP在线回收利用,ATL首家合作供应商。
SRS装备(溶剂回收系统Solvent Recycle System)
混配技术:功能型产品研发技术;在线检测技术。
系统设计与设备制造:蒸馏系统及混配系统设计;设备制造。
具备三种能力:
SRS系统设计和生产输出能力;
功能型混配产品生产输出能力;
设备设计与制造整体输出能力。
关于DIC 2022
国际显示技术及创新应用盛会—DISPLAY INNOVATION CHINA (DIC)是由中国光学光电子行业协会液晶分会(CODA)为全球显示产业搭建的集展览展示、行业交流和采购洽谈于一体的综合商贸平台。本届活动将分为中国(上海)国际显示技术及应用创新展(DIC EXPO)、中国(上海)国际显示产业高峰论坛(DIC FORUM)和国际显示技术创新大奖(DIC AWARD)三大版块。通过三位一体的协同运营,DIC将实现以展共见行业发展,以会共享行业高见,以赛共勉行业创新。
作为一年一度海内外新型显示行业极具影响力的展览会,DIC EXPO将于2022年7月6-8日在上海新国际博览中心举办。该展会已成功举办五届,聚焦显示行业全产业链,集中展示上游材料和装备工艺、中游模组和显示面板以及下游终端创新应用产品。每年均得到BOE(京东方)、TCL华星、天马、维信诺、惠科、和辉、华佳彩、龙腾光电、友达、默克、欣奕华等行业领军企业的支持。
此外,由中国光学光电子行业协会液晶分会和日经BP联合主办的DIC FORUM已成功举办十二届,本届论坛将于2022年7月6-7日在上海浦东嘉里大酒店举办。伴随着产业赋能和创新变革,现已成为业内标杆性千人商业论坛。
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