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DIC 2025展商丨天仁微纳，纳米压印光刻“一站式”服务商
来源：世展网
分类：显示行业资讯
2025-05-22 11:33
阅读：671
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INTRODUCTION
公司简介
青岛天仁微纳科技有限责任公司
展位号：特1B15青岛天仁微纳科技有限责任公司成立于2015年，是专业的纳米压印光刻设备和解决方案提供商。公司的核心竞争力是为客户提供纳米压印光刻整体解决方案。产品与服务涵盖纳米压印光刻相关的设备、模具、材料、工艺以及生产咨询服务。
公司致力于拓展纳米压印光刻技术在创新产品领域的应用，例如发光二极管（LEDs）、微纳机电系统（MEMs/NEMs）、虚拟现实和增强现实光波导（AR Waveguides）、3D传感、生物芯片、显示以及太阳能等。
公司的使命是成为世界领先的创新公司，并利用卓越的创新力为客户解决高附加值生产难题，帮助客户实现创新技术到产品的转化。
PRODUCT
推荐产品
01
GL P6 R2P
GL P6 R2P是天仁微纳新型全自动面板级辊对版（Roll to PLate）全幅高精度紫外纳米压印光刻设备，可在G6面板（1850x1500mm）上实现高精度的微纳结构复制。根据客户工艺需求，可以灵活配置包含Plasma表面处理、增粘剂（Primer）涂布、烘烤、Inkjet/Slit Coating压印胶涂布、R2P纳米压印、Photomask对准曝光、喷淋显影、清洗、后处理等工艺模块。产品特点：· 工作模具采用卷料供应方式，可在设备中直接原位复制使用，也可使用天仁微纳大幅面辊对辊（R2R）纳米压印光刻设备成卷批量制造，适合连续生产；· 可根据客户需求选择Inkjet/Slit Coating涂布方式；· 各工艺模块之间由机械手连接，精密配合、全自动连续生产，产能可达40片每小时。02
GL 2200 R2R
GL 2200 R2R是天仁微纳新型全自动辊对辊（Roll to Roll）高精度紫外纳米压印光刻设备，可在1850mm~2200mm幅宽柔性基底上实现连续高速、高精度的微纳结构复制。设备包含高精度压印胶涂布工艺单元，可根据不同压印胶黏度范围灵活搭配不同涂布方式。设备可用于连续生产适配于天仁微纳面板级辊对版压印设备（GL P6 R2P）所需的大幅面柔性复合工作模具，也适用于微透镜阵列、裸眼3D、AR/VR、LCD增亮膜以及电子纸等显示领域的研发和量产。产品特点：· 支持使用辊轮模具连续压印卷料柔性基底，同时还支持使用卷料柔性模具连续压印卷料柔性基底，实现表面压印结构翻转复制；· 压印前分离保护膜，压印后覆膜保护功能；· 自动压印、自动曝光固化、自动脱模，工艺过程无需人工干预。03
GL P6 SR
GL P6 SR是天仁微纳新型全自动面板级步进式（Step & Repeat）高精度紫外纳米压印光刻设备，可将小面积模具通过步进式压印方式高精度复制到G6面板（1850x1500mm）基底上，拼版单元尺寸可灵活精确定义，轻松应对各种母模具由小转大需求，完美解决面板级微纳结构母模具（Master）制造困难问题。配合天仁微纳面板级压印设备（GL P6 R2P）或者辊对辊压印设备（GL 2200 R2R），可分别实现在刚性/柔性基底上大幅面、高效率微纳结构连续生产。产品特点：· 步进式纳米压印方式，确保转印精度一致性，大幅度降低母模具加工成本；· 高精度压印胶涂布单元，可选用Inkjet或Puddle Dispense涂布方式；· 自动压印、自动曝光固化、自动脱模，工艺过程无需人工干预。04
GL P2 CLIV
GL P2 CLIV是天仁微纳新型面板级全幅高精度紫外纳米压印设备，标配天仁微纳CLIV（Contact Litho into Vacuum）压印技术，可在G2面板（370x470mm）上实现高精度（优于10nm*）、高深宽比（优于10：1*）纳米结构复制。该设备支持自动复制柔性复合工作模具，工作模具具有精度高、寿命长等特点，可以显著降低大面积纳米压印工艺中模具使用成本。CLIV技术的应用保证了压印结构的精度与高深宽比结构的完整填充，同时保证了大面积结构压印均匀性。产品特点：· 设备内自动复制柔性复合工作模具，降低大面积纳米压印模具使用成本；· 工作模具自动更换，适合连续生产；· 自动压印、自动曝光固化、自动脱模，工艺过程无需人工干预。05
GL300 Cluster
GL300 Cluster是功能强大的全自动纳米压印光刻生产线，它集成了从纳米压印晶圆预处理工艺，直至纳米压印光刻全套工艺步骤。标配天仁微纳CLIV（Contact Litho into Vacuum）压印技术，可实现200/300mm基底面积上全自动高精度（优于10nm*）、高深宽比（优于10:1*）纳米结构复制量产。设备采用模块化设计，用户可以根据工艺需求和生产节奏自由配置晶圆清洗、涂胶、烘烤、冷却、Plasma表面处理、AOI检测、Post Cure以及纳米压印的模块数量，达到最优的生产效率。设备支持全自动工作模具复制、工作模具自动更换、自动预处理和自动对位、自动压印、自动脱模，全部工艺过程在密闭洁净环境中进行，以保证压印结果质量。产品特点：· 全自动预处理流程，包括晶圆清洗、旋涂匀胶、烘烤、冷却、Plasma表面处理（选配）等；· 全自动纳米压印光刻流程，包括自动对位、自动压印、自动曝光固化、自动脱模等；· 产能可达100片*每小时（取决于配置、材料、工艺等因素），适合DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域的大规模量产。ABOUT US
DIC 2025
DISPLAY INNOVATION CHINA (DIC)是由中国光学光电子行业协会液晶分会（CODA）主办的国际显示技术及创新应用盛会。历经十四个春秋，DIC以国际（上海）显示技术及应用创新展（DIC EXPO）、中国（上海）国际显示产业高峰论坛（DIC FORUM）和国际显示技术创新大奖（DIC AWARD）三大版块为一体，为全球显示产业同仁打造展览展示、商贸对接和产品评选的综合性平台。
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