DIC 2025展商丨武汉国创科,聚焦显示器件喷印制造,打造高端装备国产化标杆企业

来源:世展网 分类:显示行业资讯 2025-07-01 11:32 阅读:*****
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2025年上海国际显示技术及应用创新展DIC EXPO

2025-08-07-08-09

距离34

INTRODUCTION

公司简介

武汉国创科光电装备有限公司

展位号:2D62

武汉国创科光电装备有限公司坐落于武汉·光谷。面向国家高端装备发展战略与市场需求国创科聚焦新型显示喷印制造关键共性技术、核心装备,开发大面积、高精度、高效率OLED、QLED、Micro-LED、E-paper等相关显示器件喷印制造成套创新工艺、技术与装备,以实现自主可控的新型显示制造关键装备的开发、市场化应用,致力于打造“新型显示高端装备国产化标杆企业”。

DIC上海显示展

2025.8.7-9

上海新国际博览中心

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PRODUCT

推荐产品

01

国创科膜层系列喷印装备

国创科膜层系列喷印装备是国创科针对高质量柔性膜层工艺制程而开发的系列装备。该系列包括:PTE、PTO、PTBM、PTH以及ES这5条产品线。其中PTE产品线可应用于TFE封装以及MLP光效提取工艺制程;PTO产品线应用于OCR以及光学粘结层工艺制程;PTBM产品线用于模组边框涂布制程;PTH产品线应用于AA Hole填孔工艺制程;ES产品线应用于高粘度/超薄膜层结构制备,如AR/VR光机模组,光刻胶涂布。膜层系列喷印装备可满足不同的制程尺寸,其高度的客制化在满足不同应用的场景需求外,同时也提供一套了从小试研发到中试再到量产的完整解决方案。技术参数(PTE量产型装备)基板尺寸:可定制膜厚范围:4~20μm墨滴尺寸:3.5/6/13pL(可选配) 膜厚均一性:≤5%打印精度:≤±7.5μm洁净度等级:ISO3运动精度:≤±2μm水氧含量:≤1ppm边缘直线度:≤±30μm

02

国创科RGB系列喷印装备

国创科RGB系列喷印装备主要包括PR、PB、E/P产品线,为行业提供像素结构阵列喷印工艺制程的解决方案。像素结构系列提供的点阵喷印制程可以应用在OLED/QLED中HIL/HTL/EML/QD/ZnO/CF等功能结构层,以及电子纸像素结构层的制备中。配合国创科的辅助设备,可适用于不同材料、不同工艺的开发及产品生产。可按客户的实际需求进行定制化设计,产品覆盖小尺寸科研到大尺寸量产等应用场合,充分满足客户研发与生产的需求。技术参数(PR量产型装备)基板尺寸:可定制墨滴体积控制:±5%墨滴尺寸:2.4/3.5/6/13pL(可选配)洁净度等级:ISO3打印精度:≤±7.5μm水氧含量:≤1ppm运动精度:≤±2μm

03

国创科电流体系列喷印装备

国创科电流体系列喷印装备采用电流体喷印技术,主要由EM、EP、EH、EB产品线构成,制程分辨率超过20000PPl,主要为行业提供高分辨率结构及高粘度材料喷印解决方案。电流体系列可应用在分辨率要求更高的Micro OLED CF、MLA等AR/VR像素结构制备,QLED及量子点钙钛矿打印,框胶打印,电路修复等场合。技术参数(ER型装备-TFT修复)基板尺寸:可定制运动精度:≤±1μm点径尺寸:1~20μm喷嘴对位精度:≤1μm打印线宽:≤5μm视觉系统精度:≤1μm适用粘度:1~10000cps喷嘴清洁:支持自动清洁打印精度:≤±2μm打印液滴测量:支持自动测量点径、线宽及缺陷

ABOUT US

DIC 2025

DISPLAY INNOVATION CHINA (DIC)是由中国光学光电子行业协会液晶分会(CODA)主办的国际显示技术及创新应用盛会。历经十四个春秋,DIC以国际(上海)显示技术及应用创新展(DIC EXPO)、中国(上海)国际显示产业高峰论坛(DIC FORUM)和国际显示技术创新大奖(DIC AWARD)三大版块为一体,为全球显示产业同仁打造展览展示、商贸对接和产品评选的综合性平台。

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