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DIC 2025展商丨润晶科技，电子材料定制化解决方案服务商
来源：世展网
分类：显示行业资讯
2025-07-22 11:34
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INTRODUCTION
公司简介
镇江润晶高纯化工科技股份有限公司
展位号：特1A06润晶科技作为山东海科集团战略培育的高端电子化学品核心板块，总部扎根于国家级镇江新区新材料产业园。润晶科技旗下共四家公司，覆盖显示面板和半导体两大领域，致力于为客户提供电子化学品一站式解决方案。
润晶镇江专注TMAH显影液等电子材料研发生产，2014年获国家高新技术企业认证，客户覆盖LG、京东方、华星光电等全球头部显示面板企业，并成为首家进入台湾市场的大陆显影液厂商。润晶科技于2024年收购住友化学旗下两家工厂，并更名润晶合肥与润晶重庆：润晶合肥、润晶重庆服务配套当地京东方、华星光电、惠科股份、维信诺等头部企业，提供蚀刻液系统解决方案。合肥芯科向客户提供给G5级双氧水、氨水及异丙醇等高端产品，服务长三角集成电路制造企业。润晶板块旗下四家工厂协同构建覆盖全国的战略布局，形成从G5级材料到定制化解决方案的全产业链能力，年总产能超10万吨，技术指标达国际先进水平。
· 公司电子级TMAH产品纯度已经突破SEMI G5等级，SEMI对于湿电子化学品共分为G1-G5 5个等级，G5为最高等级。SEMI G5级别产品可以满足90nm以下至3nm最新工艺需求。
· Cu蚀刻液：公司于业界首次提出Cu/N+一体化刻蚀，与客户合作开发Cu/N+一体化刻蚀刻蚀液，成功精简刻蚀环节，完成干法N+膜层工艺优化，降低对应工艺成本，大幅提升产能并缩短生产周期。· Ag蚀刻液：Ag刻蚀液技术国内领先者，在领域内具备深度技术储备，与客户合作进行多代配方升级。新型Ag刻蚀液有效解决Ag析出问题，目前市占率稳超90%，主导主流面板制造环节。PRODUCT
推荐产品
TMAH显影液：用于显影曝光后的光刻胶。CF显影液：用于显示面板CF领域的显影。EC电解液：用于溶解光刻胶中的高分子聚合物，清除曝光/显影后残留的有机物质。双氧水：用于配置SPM/SC1/SC2，用于晶圆清洗工艺。氨水：用于清洗晶圆表面，中和酸性残留并去除金属离子污染。异丙醇：作为干燥剂，通过低表面张力快速挥发晶圆表面水分。金属蚀刻液：用于蚀刻半导体、面板制造过程中铜/银/铝/钼/钛/金/等金属膜层。ITO蚀刻液：用于蚀刻ITO膜层。IGZO蚀刻液：用于蚀刻氧化物膜层。BOE蚀刻液：用于蚀刻二氧化硅绝缘层。硅蚀刻液：用于蚀刻硅。氮化硅蚀刻液：用于蚀刻氮化硅。多晶硅蚀刻液：用于蚀刻多晶硅。Spin蚀刻液：用于晶圆背面减薄磨平工艺。Glass蚀刻液：用于TGV玻璃通孔技术中的激光诱导蚀刻工艺。稀释剂/EBR：用于稀释光刻胶、清洗管道/用于清洗晶圆边缘多余的光刻胶。剥离液：用于剥离光刻胶。蚀刻后灰化清洗剂：用于铝、铜线制程中，蚀刻灰化后残留物的清洗去除。pCMP清洗剂：用于CMP制程后清洗。封装基板清洗剂：用于清洗先进封装产品芯片焊后封装前基板载板焊盘上的焊后残余物。DRR清洗剂：用于28nm以下制程的光刻胶清洗。
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DIC 2025
DISPLAY INNOVATION CHINA (DIC)是由中国光学光电子行业协会液晶分会（CODA）主办的国际显示技术及创新应用盛会。历经十四个春秋，DIC以国际（上海）显示技术及应用创新展（DIC EXPO）、中国（上海）国际显示产业高峰论坛（DIC FORUM）和国际显示技术创新大奖（DIC AWARD）三大版块为一体，为全球显示产业同仁打造展览展示、商贸对接和产品评选的综合性平台。
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