【优质展商】中电科——致力于碳基材料纯化装备、SiC/TaC/PG化学气相沉积装备、半导体产业相关配套装备

IACE CHINA 2026

由新之联伊丽斯（上海）展览有限公司主办的“第18届中国国际先进陶瓷展览会”将于2026年3月24-26日在国家会展中心（上海）隆重举办。展览内容涵盖先进陶瓷领域原材料、机械设备、部件产品及服务等整条工艺链。展会规模达55,000平方米，云集1,000+家中外企业参展，参展品牌2,000个，国内外观众预计将达到80,000人次。

优质展商揭幕

山西中电科电子装备有限公司

CETC SHANXI ELECTRONIC EQUIPMENT CO., LTD.

国家会展中心（上海）

1.1馆 G130

主营产品

MAIN PRODUCTS

”

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01

立式/卧式SiC化学气相沉积炉

产品简介

采用MTS为先驱体原料，通过鼓泡或蒸发方式带入混合罐中，Ar和H2作为混合气体，在石墨或者SiC基底表面进行CVD涂层。可提供装备+工艺+服务的全套解决方案，涂层后的产品厚度达到100±10μm；纯度≤1ppm；硅碳比1:1，涂层各项指标均满足半导体需求。

• 沉积室尺寸：

  1700mm(L)×1250mm(W)×1150mm(H）

  1550mm(L)×1150mm(W)×1000mm(H）

  1500(φ)×1900(H)mm/

  1150(φ)×1800(H)mm/

  1600(φ)×1600(H)mm（可定制）

• 沉积温度：900℃~1600℃；

• 温度均匀性：±5℃ ;

• 压升率：0.67Pa/h

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02

真空热压烧结炉

产品简介

该设备主要用于高温和压力环境下对材料进行致密化热处理过程，主要用于粉末冶金、陶瓷、复合材料等先进材料的成型与烧结。

结构形式：立式

加热区尺寸：900(φ)×1300(H)mm；

均温区尺寸：900(φ)×500(H)mm(可定制）

• 工作温度：2200℃

• 压力：600t

• 温场均匀性：≤±10℃

• 压升率：≤5Pa/h

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03

TaC化学气相沉积炉

产品简介

采用TaCl5和C3H6混合气体为先驱体原料，Ar和H2作为混合气体，在石墨基底表面进行CVD涂层。可提供装备+工艺+服务的全套解决方案，涂层后的产品厚度达到30±5μm；纯度：≤5ppm；钽碳比：1:1，涂层各项指标均满足半导体、航空航天热防护、医疗器械等行业需求。

• 沉积室尺寸：

  430(φ)×900 (H)mm /

  750(φ)×900 (H)mm

• 沉积温度：1100℃~2400℃；

• 温度均匀性：±5℃ ;

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04

热解石墨化学气相沉积炉

产品简介

采用CH4为先驱体原料，Ar和H2作为混合气体，在石墨基底表面进行CVD涂层。可提供装备+工艺+服务的全套解决方案，涂层后的产品厚度达到40±5μm；纯度：≤1ppm；热导率：376W/m·K（a）2.0W/m·K（c），涂层各项指标均满足半导体、火箭喉衬、OLED行业蒸镀器皿等需求。

• 沉积室尺寸：

  1150(φ)×1000(H)mm/

  1300(φ)×1650(H)mm/

  1750(φ)×2600(H)mm

• 沉积温度：1800℃~2300℃；

• 温度均匀性：±5℃ ;

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05

立式高温纯化炉

产品简介

主要用于石墨、保温毡、石墨粉体等碳基材料的纯化及元素定向去除。采用电阻式加热，通过红外测温仪、温度控制模块实现2400℃高温加热，配合纯化工艺可实现炭基材料的高纯度处理，设备纯化效果好，自动化程度高、性能可靠稳定。

• 纯化室有效尺寸：

  1300(φ)×1600(H)mm；

  1500(φ)×1600(H)mm；

• 最高温度：2500℃；

• 纯化后杂质总含量：

总杂质<5ppm(石墨、石墨粉)，其中单元素 B≤0.01ppm、Al≤0.01ppm；

总杂质≤20ppm(石墨毡、碳碳复合材料)。

COMPANY PROFILE

关于中电科

山西中电科电子装备有限公司隶属于中国电子科技集团有限公司旗下中电科电子装备集团有限公司。公司致力于碳基材料纯化装备、SiC/TaC/PG化学气相沉积装备、半导体产业相关配套装备研发制造及产业化验证，建立关键核心装备研发中心和生产基地及相关制造工艺技术产业化验证平台，研制装备主要应用于半导体、锂电、航空航天、消费电子领域，尤其解决第三代半导体装备国产化替代。

CETC Shanxi Electronic Equipment Co., Ltd. is affiliated to CETC Electronics Equipment Group Co., Ltd. under China Electronics Technology Group Corporation (CETC). The company is committed to the research and development, manufacturing and industrialization verification of carbon-based material purification equipment, SiC/TaC/PG chemical vapor deposition equipment, and supporting equipment related to the semiconductor industry. It has established a  research and development center and production base for key core equipment, as well as an industrialization verification platform for related manufacturing processes. The developed equipment is mainly used in the fields of semiconductors, lithium batteries, aerospace and consumer electronics, especially to realize the localization replacement of third-generation semiconductor equipment.

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