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DIC 2026展商丨武汉国创科，新型显示喷印制造装备专家

来源：世展网分类：显示行业资讯 2026-05-26 12:03 阅读：1034

武汉国创科光电装备有限公司（展位号：N4-A116）总部坐落于武汉 · 光谷，子公司广东国创科在佛山南海区。面向国家高端装备发展战略与市场需求，国创科聚焦新型显示喷印制造关键共性技术、核心装备，开发大面积、高精度、高效率OLED、QLED、Micro-LED、E-paper等相关显示器件喷印制造成套创新工艺、技术与装备，以实现自主可控的新型显示制造关键装备的开发、市场化应用，致力于打造“新型显示高端装备国产化标杆企业”。

推荐产品

01国创科膜层系列喷印装备

国创科膜层系列喷印装备是国创科针对高质量柔性膜层工艺制程而开发的系列装备。该系列包括：PTE、PTO、PTBM、PTH以及ES这5条产品线。其中PTE产品线可应用于TFE封装以及MLP光效提取工艺制程；PTO产品线应用于OCR以及光学粘结层工艺制程；PTBM产品线用于模组边框涂布制程；PTH产品线应用于AA Hole填孔工艺制程；ES产品线应用于高粘度/超薄膜层结构制备，如AR/VR光机模组，光刻胶涂布。膜层系列喷印装备可满足不同的制程尺寸，其高度的客制化在满足不同应用的场景需求外，同时也提供一套了从小试研发到中试再到量产的完整解决方案。

02国创科VCD装备

全尺寸高真空VCD工艺，直接影响印刷OLED/QLED的膜厚均一性、发光效率寿命等，是印刷OLED产品化的核心技术。国创科针对高沸点Ink材料进行了重点研发攻关，通过结构、流场的合理设计，提高腔体内流场的均匀性，使载台与冷凝板温度均匀可控，多段真空、抽速、保压时间可调，集成了20余项专利技术，可以适配200℃以上高沸点混合溶剂的高均一性干燥成膜。国创科已完成200*200、G4.5、G5.5、G6等多世代产品的研发和交付，其中G5.5 VCD设备已在客户产线完成近万片的量产跑机（业内最多高沸点Ink量产化实绩）。该高真空VCD设备，也已经向钙钛矿、光刻胶等行业出货。

03国创科电流体系列喷印装备

国创科电流体系列喷印装备采用电流体喷印技术，主要由EM、EP、EH、EB产品线构成，制程分辨率超过20000PPl，主要为行业提供高分辨率结构及高粘度材料喷印解决方案。电流体系列可应用在分辨率要求更高的Micro OLED CF、MLA等AR/VR像素结构制备，QLED及量子点钙钛矿打印，框胶打印，电路修复等场合。

DIC 2026

由中国光学光电子行业协会液晶分会（CODA）主办的全球显示技术年度盛会--DIC 2026系列会展活动将再度登陆上海。其中，DIC FORUM 2026中国（上海）国际显示产业高峰论坛将于8月26-27日在上海浦东嘉里大酒店隆重开幕，DIC EXPO 2026国际（上海）显示技术及应用创新展将于8月26-28日在上海新国际博览中心举办。

“多元赋能全面升维”，DIC 2026将继续推动我国显示产业不断升级发展，促进我国显示产业从规模领先向价值领先转变，为全球显示产业提供技术升级、绿色转型的中国方案，共同构建开放、包容、共赢的全球显示产业生态。

DIC 2026精选参展商