展品抢先看 | 迈为科技即将展出半导体晶圆激光开槽设备、SiC研磨机、8寸/12寸晶圆研磨机等设备

展商名称：苏州迈为科技股份有限公司

展位号：9F18

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该设备使用激光在晶圆表面刻线开槽，以人性化的操作设计提升用户体验、智能化的软件系统提高生产效率。

主要优势：配备高精密直线电机，高速度X-Y运动平台；采用特殊定制的激光器加工，切割槽型品质高，热影响小；软件操作简单，设备维护便捷；单焦点实现宽光、细光自由组合的切割模式，加工精度高。

用于6寸、8寸碳化硅工艺。

主要优势：高精度铸件，无应力变形；自制主轴，稳定性高；搭载接触式测高模块，闭环控制研磨TTV； 搭配自主研发、制造高目数磨轮，实现晶圆精抛功能，改善晶圆强度，减少表面损伤层； 优秀的视觉检测和定位系统，可识别晶圆正反面，自动定位补偿； 台盘倾角电机调整控制，精准、操作方便； 先进的可视化界面，可实时监控和显示关键加工信息曲线。 

该产品用于存储器产品的改质切割工艺。

主要优势：配备高精密直线电机，高速度X-Y运动平台；[DFT动态追踪补偿系统]配有高精度的晶圆表面高度追踪及补偿系统，保证加工稳定性；[SLM激光调制技术]配有光斑整型及补偿功能，提高激光使用效率和产品切割质量；操作软件简单易用，设备维护方便；极小的激光溅射（SPLASH ＜10um）；2-Beam同时加工作业，效率高；Fab级搬运机器人，可对应不同料盒，如FOSB、FOUP规格。

用于8寸、12寸晶圆减薄、精抛工艺。

主要优势：高精度铸件，无应力变形；自制主轴，稳定性高； 搭配自主研发、制造高目数磨轮，实现晶圆精抛功能，改善晶圆强度，减少表面损伤层； 优秀的视觉检测和定位系统，可识别晶圆正反面，自动定位补偿； 台盘倾角电机调整控制，精准、操作方便； 先进的可视化界面，可实时监控和显示关键加工信息曲线。

用于晶圆表面等离子体切割。

主要优势：双离子源ICP电感耦合等离子刻蚀腔体设计，高刻蚀均匀性；双电极静电卡盘吸附设计，吸附力强，控温性能好；Inline多腔体同时作业，高Throughput；高精度真空搬运手臂，产品搬运安全性高；双层Gas Buffle设计，提高plasma均匀度可调性；产品温度红外检测设计，超温保护，提高产品安全性；工艺终点侦测设计，工艺完成检测，避免刻蚀过量影响产品安全；可用于异形及不规则切割道的产品切割；可用于小芯片、超窄切割道晶圆切割，saw street<20μm。

该设备用于半导体材质的晶圆减薄。

主要优势：物料信息扫描录入，Fab 晶圆级搬运手臂 防呆系统完整，识别物料正反面；水封真空泵，真空稳定，震动小；可视化管理加工过程 定制超高精密加工工位，性能卓越震动小。

用于8寸、12寸晶圆减薄、抛光工艺。 

主要优势：高精度铸件，无应力变形；自制主轴，稳定性高； 搭载非接触式及接触式测高模块，对晶圆厚度稳定控制； 搭配自主研发主轴、抛光磨轮，实现晶圆干抛功能。改善研磨残留的损伤层，进一步提升晶圆强度；优秀的视觉检测和定位系统，可识别晶圆正反面，自动定位补偿；独立式台盘倾角电机调整控制，精准、操作方便； 先进的可视化界面，可实时监控和显示关键加工信息曲线。

该系统用于硅晶圆及SiC、GaN等第三代半导体内部改质切割工艺。以其先进的智能系统确保产品加工的品质与效率。

主要优势：配有高精度的晶圆表面高度追踪及补偿系统，采用快速步进移动方式，加减速时间段，X/Y轴同时配合，无需将速度降至0即可完成切割道更换，提升作业效率； 配有光斑整型及补偿功能，使用SLM技术进行激光调制，通过相位补偿，使激光更加聚焦，调高加工效率和品质。

主要应用于8、12英寸半导体晶圆领域的全自动划切加工；丰富的功能选择，可适用不同种类产品，满足不同客户的定制化需求。

主要优势：良好的振动抑制平台架构, 实现稳定、高效的加工工艺； 精密进口滚珠丝杆、直线导轨，低膨胀系数光栅尺闭环控制，高精度机台性能长时间保持； 双轴对装结构，最小轴间距26mm，工艺适应范围广； 自主研发破刀侦测（BBD）和非接触式测高（NCS）系统 高性能控制系统，图形化软件界面； 自动上下料、搬送定位、对准切割、刀痕检测、清洗干燥，实现全自动的运行模式。