DIC 2026展商丨正博诺,电子特三氟化硼11(11BF)专业生产商

来源:世展网 分类:显示行业资讯 2026-08-16 12:03 阅读:719
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2026年上海国际显示技术及应用创新展DIC EXPO

2026-08-26-08-28

距离10

公司简介

江苏正博诺科技发展有限公司展位号:N5-A57公司成立于2022年,位于中国精细化工(泰兴)开发园区,注册资本3亿元,占地面积约33000平方米。公司拥有国际领先的工艺技术、先进生产设备、严格的质控体系与专业运营团队,专注于同位素核心材料的研发与生产。目前核心产品三氟化硼11已全部量产,该产品广泛应用于芯片、面板制造过程中的离子注入工艺。

推荐产品

01三氟化硼11三氟化硼11(BF-11)是半导体制造中的关键电子特气,广泛应用于离子注入、高端显示面板离子注入等核心工艺环节。我们的产品采用先进的同位素分离技术,确保高纯度和稳定的同位素丰度。先进制程芯片离子注入:在5nm、3nm等先进制程中,高丰度(99.99%)的BF除了适用于传统的离子注入机外,更能在先进的等离子体浸没离子注入机使用过程中发挥优势。等离子体浸没离子注入机,高丰度(99.99%)的BF是首选的特气材料。公司成功攻克高丰度及高纯度11BF国产化生产关键核心技术,全面实现自主可控,彻底打破长期依赖进口的局面。产品指标:1、高纯度保障:采用先进的纯化技术,确保产品纯度达到99.999%以上,满足半导体工艺对材料纯度的严苛要求。2、稳定的同位素丰度:专业的同位素分离技术,确保B-11同位素丰度稳定在99.99%以上,批次间一致性优异。3、完善的质量管理体系和先进的检测设备,确保每一批次产品都符合半导体级标准。

02三氟化硼11/三氟化硼11混氢充装线:目前最终用户在半导体离子注入使用11BF作为离子源时,必须缩小钢瓶体积并安装在洁净室的离子注入机台上。洁净室作为一个封闭系统,如果操作员将容器掉落地面导致泄漏,有毒气体可能会伤害在洁净室中的操作员,导致停工。11BF在瓶中需要保持负压形式,即使泄漏也不会对环境产生影响。 在三氟化硼中引入氢气,可有效延长离子注入机离子源的发射极寿命,我司特引进先进的三氟化硼11混氢充装线,以满足客户对不同形式产品的要求。产线使用进口混氢气瓶充装产线设备。该系统集成真空预处理、精密配比及高压充装功能,专为满足半导体等高端领域对特种气体纯度与安全性的严苛要求而设计。作为进口装备,它具备极高的控制精度、卓越的密封防腐性能及完善的安全联锁机制,能确保高危混气作业的稳定与可靠。

DIC 2026

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