DIC 2026展商丨玻纳刻,新型显示曝光机供应商

来源:世展网 分类:显示行业资讯 2026-08-20 12:06 阅读:1423
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2026年上海国际显示技术及应用创新展DIC EXPO

2026-08-26-08-28

展会结束

公司简介

上海玻纳刻科技有限公司

展位号:N5-C18

上海玻纳刻科技有限公司成立于2025年7月,致力于为新型显示领域提供高精度、高性能、高可靠性的设备解决方案和服务支持,是除日本佳能、尼康外,国内唯一的新型显示投影扫描曝光机设备供应商。玻纳刻公司当前主要产品涵盖G2.5~G8.6代新型显示曝光机(包含大/中/小Mask系列扫描曝光机)、G4.5~G8.6代基板长/短寸量测设备、金属掩模张网及其量测机等,主要应用于LCD、AMOLED以及Mini/Micro LED等高清显示屏制造领域。公司系列产品,曾获上海科学技术奖一等奖、中国工博会金奖等。面向未来,玻纳刻公司将持续秉持着务实·创新·合作的核心理念,专注于玻璃基微纳光刻加工,致力于成为全球高精度设备解决方案标杆。推荐产品01投影扫描曝光机设备产品覆盖G2.5代到G8.6代,广泛应用于LCD、OLED和Mini/Micro LED等高清显示屏制造领域的TFT Array和CF光刻工序。核心技术指标均已达到国外先进设备水平,可为客户提供定制化需求,满足复杂工艺条件下使用,并为客户带来低成本、高效率的设计方案。主流产品均已出货给京东方、华星光电、维信诺、天马、惠科等国内头部面板厂。产品优势:1.全系列产品100%自主知识产权,打破国外技术垄断;2.定制化设计,可满足客户多场景、复杂工艺下使用;3.高性能、高分辨率,高可靠性,均达到国际先进水平。02长/短寸量测设备用于G4.5~G8.6世代基板量测工序,同时具有长寸及短寸量测功能,支持包含Total pitch(位置精度)、OVL(套刻精度),CD(线宽)等量测功能,搭载纳米级控制技术及高精度温控技术,可快速精准的完成量测任务,同时采用了多波段组合光源,可灵活对应新型工艺需求,适用于Array、CF量产以及新型显示工艺。产品优势:1.高精度量测:自主设计开发光学测量头,采用高对比度成像技术;2.高精度焦面测量:更强的工艺适应性,并具备自适应补偿能力;3.高测量效率:采用高刚度运动台结构,更快的运动速度03金属掩膜版张网机及量测设备应用于OLED G6及以上世代高精密金属掩模版FMM张网工序及其量测工序,张网机具有高精度张网及高效率焊接功能,可实现全制程像素位置精度监控及实时补偿,灵活应对不同产品的工艺需求;张网量测设备支持包含FMM像素位置精度PPA,像素关键尺寸CD等量测功能,搭载多种配置的照明单元及配套量测算法。产品优势:1.高刚度气浮导轨技术助力实现运动台高精度运动定位;2.全制程像素实时监控和补偿,可灵活对应复杂工艺;3.多倍率物镜,多照明模式可满足不同工况的测量需求DIC 2026由中国光学光电子行业协会液晶分会(CODA)主办的全球显示技术年度盛会--DIC 2026系列会展活动将再度登陆上海。其中,DIC FORUM 2026显示产业创新合作论坛将于8月26-27日在上海浦东嘉里大酒店隆重开幕,DIC EXPO 2026显示技术及应用创新展将于8月26-28日在上海新国际博览中心举办。“多元赋能 全面升维”,DIC 2026将继续推动我国显示产业不断升级发展,促进我国显示产业从规模领先向价值领先转变,为全球显示产业提供技术升级、绿色转型的中国方案,共同构建开放、包容、共赢的全球显示产业生态。DIC 2026精选参展商

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