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前言 / Preface
图源:Vision China 2025(深圳)
在锂电、半导体高端制造产线,高分辨率、超高速成像带来海量图像数据流,传统视觉系统依靠CPU中转图像,极易出现延迟、丢帧、算力资源挤占,微米级缺陷漏检风险居高不下。但锂电和半导体在机器视觉的行业规模又呈现爆发时增长趋势,因此其需求是非常迫切的。
本届深圳机器视觉展暨机器视觉技术及工业应用研讨会(Vision China Shenzhen)将于2026年10月27-29日举办,Emergent Vision将携其依托与NVIDIA深度联合研发的GPU-Direct零拷贝直连技术方案来到展会现场。
该方案搭配10G/25G/100GigE全系相机、THEIA/HERMES/ZEUS专用网卡与eCapture Pro软件生态,打通“相机—网卡—GPU”直传链路,实现“零延迟、零丢帧、零CPU占用”的高性能视觉算力架构,已在头部锂电、半导体工厂规模化落地。欢迎行业同仁来到现场交流分享!
Case
PART. 01
新能源锂电极片高速检测案例
项目背景
国内头部动力电池企业涂布、辊压、分切产线走带速度达4m/s,需同步检测极片露铜、划痕、孔洞、颗粒、涂布不均等微米级缺陷。原方案采用8K线扫相机搭配传统采集架构,图像数据先缓存至系统内存再转交GPU推理,单台服务器仅可承载12路相机,CPU长期满载30ms以上传输延迟,高速卷材边缘频繁丢帧,微小缺陷漏检率达4.2%,制约产线提速上限。
Emergent整套算力部署方案
成像端搭载LZT-8KG5 100GigE TDI线扫相机,1MHz超高行频匹配高速走带;传输层配置ZEUS 100G专用采集网卡,原生支持GPU-Direct RDMA零拷贝传输;算力平台采用NVIDIA L40S多GPU服务器,配套eCapture Pro采集软件与AI推理插件,支持PyTorch、TensorFlow质检模型一键集成。
整套架构彻底移除CPU内存中转环节,图像数据流直接写入GPU显存并行运算,单台服务器稳定承载24台8K线扫相机同步采集,PTP微秒级多相机同步保障卷材无盲区成像。
落地成效
1. 传输延迟从32ms压缩至7ms,完全匹配4m/s产线实时检测节拍,PLC可同步完成不良品实时剔除;
2. CPU负载下降90%,仅负责产线信号交互,算力资源全部释放给AI缺陷推理;
3. 全程零丢帧,微米级孔洞、划痕缺陷检出率提升至99.97%,漏检率降至0.21%;
4. 产线单日产能提升22%,单条检测产线每年减少百万级不良品损耗。
Case
PART. 02
半导体晶圆&显示面板
AOI检测案例
采用ZENITH HZ-100-SB 100GigE大面阵相机,搭配HERMES 25G多端口网卡构建多相机阵列;依托GPU-Direct硬件级直连技术,图像绕过系统内存直达NVIDIA DGX边缘算力平台,eSDK开发工具提供完整源代码案例,适配半导体专用ADC自动缺陷分类大模型。
方案支持单服务器纳管30台高速相机,多GPU负载动态均衡,Windows、Linux双系统兼容,完美适配洁净车间工业软件生态。
落地成效
1. 晶圆全幅图像端到端推理延迟由220ms降至10ms,IGX Orin边缘平台下最低可达8ms;
2. 多相机并发无带宽拥堵,7×24小时不间断检测零丢帧,芯片微缺陷分类准确率98.5%;
3. 省去多台工控机分层采集架构,设备硬件综合成本降低35%,车间占地缩减40%;
4. 取消每小时停机校准工序,晶圆检测产线综合稼动率提升18%。
行业通用技术核心价值总结
锂电、半导体制造的核心痛点均为“超大数据流量+实时AI算力需求”,Emergent Vision GPU-Direct算力方案从底层传输架构重构视觉系统:零拷贝技术消除数据中转损耗,100GigE高速硬件打通带宽瓶颈,软硬件一体化生态降低客户集成开发周期。
相较于传统视觉方案,整套系统可实现多相机高密度部署、更低延迟、更高缺陷检出精度,同时大幅释放CPU算力、缩减服务器投入,既能满足锂电卷材连续高速检测场景,也适配半导体晶圆超高精度静态扫描场景,为新能源、半导体高端智造提供标准化、可扩展的高速视觉算力底座。
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