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光源
&
检测
在机器视觉检测项目中,即便同为高反光或反射不均匀表面的检测场景,不同客户遇到的问题也可能截然不同。
部分工件带有台阶、凹槽或明显高度差,采用常规条纹光照明时容易出现遮挡;还有一些工件外形不规则、局部高反光,使用统一亮度照明时容易产生亮斑或过曝;不同项目都需要根据工件结构、反射特性和检测目标,对2.5D光源的照明组合与分区方式进行进阶设计。
图源:Vision China 2025(深圳)
2026年10月27-29日,深圳机器视觉展暨机器视觉技术及工业应用研讨会(Vision China Shenzhen)将重磅启幕,作为条纹光源生产厂家,东莞锐视光电将携其2.5D光源的定制化组合方案来到展会现场。欢迎行业同仁莅临展位进行交流,将根据您需求,定制更合适的光源与成像方案。
P-DISL2条纹光源
条纹光源通过投射周期性明暗条纹,将高反光表面的细微形貌变化转化为可识别的条纹变化。配合线扫相机和分时频闪,可用于强化划伤、凹坑、压痕、脏污以及台阶边缘等缺陷。
但在实际项目中,仅采用一种固定照明结构或统一亮度,往往不足以获得合格的检测图像。工件结构、表面材质、缺陷方向、工作距离、安装空间以及允许的拍摄节拍,都会直接影响最终成像效果。真正有效的方案,不是将固定结构直接套用到所有项目上,而是围绕客户需求重新设计照明组合与分区控制。接下来我们通过两个案例,展示2.5D光源的两种进阶思路。
案例一
条纹同轴光与四分区环光组合10分时紧凑集成
该方案将条纹同轴光源与四分区环光集成在同一结构中,条纹照明通过同轴光路进入检测区域,环光的四个分区围绕发光区域布置,采用分时点亮的方式,可在有限安装空间内一次完成10张子图的分时采集。
产品特点:
· 同轴条纹照明:通过分光或转角结构将条纹照明折入相机成像光路,减少台阶、凹槽、凸台及存在高度差的结构造成的遮挡与成像盲区。
· 四分区独立照明:环光的四个分区可分别独立点亮,直接输出四个方向的光照图像,同时可满足漫反射物料的成像需求。
· 10分时紧凑集成:搭配新研发的P-SD2系列分时频闪控制器,相较于市面常规支持6-8路分时的常规频闪控制器,该系列最高支持50路分时控制,应对组合条纹同轴方案的10分时控制需求绰绰有余。
典型应用:
适用场景:玻璃盖板、台阶金属件、精密结构件、注塑镜面件、半导体封装、IC引脚,以及具有孔位、凹槽或凸台的高反光零件。
成像效果:
结构图体现同轴条纹与四分区环光的一体化集成,可有效减少倾斜架设带来的视差与结构遮挡。从对比结果可以看出,倾斜架设时台阶后的箭头无法完整呈现,而直同轴架设能够清楚获取被测区域信息,更适合复杂结构工件的外观检测、字符识别及缺陷分析。再搭配2.5D成像,台阶后的缺陷也可轻松呈现。
光源实物/结构渲染图
倾斜架设效果
(台阶后的箭头被遮挡)
直同轴架设效果
(能看到台阶后面箭头)
案例二
常规4分区光度立体进阶64分区
分区调光实现不规则样品均匀成像
该方案以常规4分区光度立体为基础,面向外形不规则、局部高反光且反射差异较大的工件,将照明分区由4个进阶扩展至64个可独立控制的穹顶分区。系统可分别设定每个分区的亮度,并将多方向照明图像用于光度立体计算,兼顾反光抑制与细微形貌信息提取。
产品特点
· 从4分区进阶至64分区:相较于常规4分区光度立体,64分区可提供更细致的方向与位置控制。每个分区均可单独设置亮度,针对工件不同位置的材质、曲面和反射强度,可进行局部补光或减光,避免以统一亮度覆盖整个视野。
· 进阶的强反光位置定向抑制:当工件局部出现过强反光时,可下调对应光照位置分区的亮度,降低饱和和亮斑;其他区域保持必要的照明强度,使不规则样品在视野内获得更均匀的光照。
· 光度立体信息融合:64个分区按设定时序输出更丰富的多方向光照图像,可用于光度立体合成,突出凹凸、压痕、划伤、边缘起伏等形貌差异,为后续缺陷分析提供稳定输入。
典型应用
适用场景:异形金属件、曲面件、压铸件、焊接件、消费电子外壳、半导体封装件,以及表面反光不均、结构起伏明显的工件。
成像效果
常规4分区进阶至64分区后,可通过更细的分区亮度标定,针对工件易产生强反光的区域,下调相应分区的输出亮度;在保留其他区域有效信号的同时,减少局部过曝与反光干扰。相比常规4分区或整灯统一调光,64分区方案更适合外形不规则、反射差异大的样品;配合光度立体合成,可更稳定地呈现表面细微形貌和缺陷。
64分区结构
64分区单独可控
光度立体合成效果图
我们定制的,不只是一款光源
2.5D光源的应用不存在唯一固定结构。针对不同项目,需要综合考量工件尺寸与外形结构、表面反射特性、目标缺陷类型及方向、相机视野与工作距离、允许的分时数量、产线运行速度以及设备安装空间。
部分项目适合将常规条纹光源与环光进阶组合,兼顾条纹形貌信息与多方向照明;另一部分项目则可将常规4分区光度立体进阶至64分区,通过更精细的亮度控制,改善不规则、高反光工件的成像均匀性。针对不同的检测目标,我们可对光源结构、照明方向、分区方式、亮度参数、触发时序和机械安装进行定制。
案例一将常规条纹光源与四分区环光进行进阶组合,可在10分时频闪下同时兼顾复杂结构成像与检测节拍要求;案例二将常规4分区光度立体进阶至64分区,通过对各分区独立调光,在工件反光对应的光照位置降低亮度,让不规则样品获得更均匀的照明与更稳定的形貌信息。
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