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RUBI1:自主研发涂胶显影机,主要为6/8 inch 硅基和碳化硅基工艺提供高产能解决方案。设备结构为多层叠加设计,每层有独立的传送系统提供优秀的产能输出。可实现对接最新佳能光刻机。
RUBI2:自主研发的第二代涂胶显影机,主要为12 inch 先进封装,OLED,前道offline涂胶工艺提供国产化解决方案亦为占地面积考虑提供一般产能inline支持。设备结构为多层叠加设计,有着优秀的产出占地比率。
RUBI3:最新一代高产能涂胶显影机,主要为12inch 前道半导体提供inline国产化方案,可实现对接所有国际主流光刻机,机台设计对标国际TOP1。并通过inspection module,process area monitor,transfer centering control等功能实现机台OEE improvement。
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