光刻机直供日本！ASML在日本建基地！

SEMI-e 深圳国际半导体展

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9月27日，《日本经济新闻》报道，荷兰半导体设备巨头阿斯麦（ASML）将于2024年下半年在北海道建立新的技术支持基地。该公司将配合Rapidas工厂的建立和维护检查，该工厂旨在批量生产最先进半导体，并将在2028年左右将其日本劳动力增加40%。随着中美冲突导致东亚地缘政治风险加大，各大外国企业纷纷在日本开设基地。

阿斯麦在半导体的主要制造设备光刻机领域是世界第一，而且还垄断了极紫外光刻（EUV）技术。EUV技术是量产5至7纳米以下最尖端芯片的必备技术，因此阿斯麦的支持不可或缺。

阿斯麦的一位发言人表示，公司将为Rapidus建立一个客户支持团队，但无法立即确认员工人数。据报道，50名阿斯麦工程师将在北海道千岁市的一条原型生产线上安装一台阿斯麦EUV光刻机。

“我们一直有工程师在客户的晶圆厂支持我们的系统，”阿斯麦发言人表示。

Rapidus在千岁市的工厂于9月1日破土动工。据了解，Rapidus是一家成立13个月的初创公司，计划从零开始制造尖端芯片。Rapidus获得日本政府数十亿美元的资金支持，并得到了索尼()和丰田汽车()等家喻户晓的公司的支持。

Rapidus的目标是在2纳米工艺节点上制造芯片，这将需要使用阿斯麦最先进的EUV光刻机来帮助绘制芯片电路。

目前，日本已为该合资企业拨款24亿美元，日本官员们表示，他们准备每年提供类似的预算。日本首相岸田文雄承诺向Rapidus提供“最大限度的支持”，以保持该合资企业的正常发展。

整理 | 日本经济新闻、参考消息、深科技

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