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展商动态 | 上海新阳半导体材料股份有限公司——邀您共赴IICIE国际集成电路创新博览会

来源:世展网 分类:半导体行业资讯 2026-08-25 20:14 阅读:2212
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2026年中国(深圳)国际集成电路创新博览会暨半导体展IICIEE

2026-09-09-09-11

展会结束

上海新阳半导体材料股份有限公司专注为用户提供集成电路关键工艺材料、配套设备、应用工艺和现场服务,是世界先进的半导体材料研发生产企业之一。上海新阳创立于1999年7月,2011年6月在深圳证券交易所创业板上市,股票代码:300236。

公司成立20多年来,始终坚持技术创新,目前形成了拥有完整自主可控知识产权的电子电镀、电子清洗、电子光刻、电子研磨、电子蚀刻五大核心技术,用于晶圆电镀与晶圆清洗的第二代核心技术已达到国内领先水平,用于存储芯片蚀刻的第五大核心技术已处于国际领先水平。紧密围绕五大核心技术,上海新阳开发研制出200多种关键工艺材料,产品广泛应用于集成电路。

展品推介

ArF 光刻胶

集成电路制造用高端光刻胶产品系列包括 I 线光刻胶、KrF 光刻胶、ArF 干法、浸没式光刻胶以及稀释剂、底部抗反射膜(BARC)等配套材料,主要用于逻辑、模拟和存储芯片生产制造。公司光刻胶项目研发进展比较顺利,I 线、KrF 光刻胶目前已在超20家客户端提供样品进行测试验证。公司 KrF 光刻胶目前已有多型号产品实现小批量、持续销售。同时原料开发工作也取得阶段性成果,原料树脂的合成方案探索、工艺优化、稳定性等方面都取得突破。ArF 浸没式光刻胶的研发进展顺利,已在国内多家晶圆制造企业开展。

CMP研磨液

w,poly,STI,ILD,等研磨液全国产原料,纯自主粒子生产,对粒子大小及形貌具备调整条件;采用全自动生产线生产。主要优势为高稀释比,高研磨速率,适用于各类工艺产品;公司拥有CMP主设备3台,可以有效地针对研发产品及线上问题有效及时输出。

2026年9月9-11日,上海新阳半导体材料股份有限公司将在IICIE国际集成电路创新博览会与大家面对面交流,展位号:15C80

查看展商邀请函


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  时间:2026年9月9-11日地点:深圳国际会展中心

IICIE国际集成电路创新博览会(简称“IC创新博览会”)以 “跨界融合全链协同,共筑特色芯生态”为主题,全面呈现芯片及芯片设计、晶圆制造、封装测试、核心设备、关键材料及核心零部件的全链条生态布局。今年展会将与CIOE中国光博会、elexcon深圳国际电子展同期同地举行,深度联动半导体制造、集成电路、光电、嵌入式电子等核心领域,三展总展示面积达32万平方米,参展企业超5000家。点击此处一键报名即可一证通行三展!

芯片及芯片设计/功率半导中兴微电子、华润微电子、比亚迪半导体、爱特微、北京君正、澜起科技、紫光国微、广立微、复旦微电子、灿芯半导体、谱瑞集成、极海半导体、成都华微电子、国芯科技、算能科技、京微齐力、鸿芯微纳、珠海芯动力、进迭时空、隼瞻科技、六岳微电子、二进制半导体、乘翎微电子、达摩院玄铁等;

晶圆制造及封装测试技术与服务:华虹集团、积塔半导体、晶合集成、新芯股份、增芯科技、通富微电、华天科技、芯植微、佰维存储、时代民芯、锐立平芯、新核芯、安吉海万欣等;

半导体设备盛美上海、拓荆科技、华海清科、微崇半导体、华煜半导体、精测电子、北京中电科、中科飞测、隆友德、华卓精科、迈为技术、东方晶源、维嘉科技、三丰精密、容道社、冠礼科技、光粒半导体、理纯洁净、海目芯微、津上智造、钧华半导体、致和半导体、维嘉科技、微法尔、四元数、海浥半导体、艾恩、博涛智能、芯慧联芯、佳智彩、运泰利、伊创科技、幂帆科技、昌鼎电子、稳顶聚芯、华封科技、中科四点零、上可优等;

半导体材料:沪硅产业、天科合达、电科材料、安集科技、中船特气、上海新阳、清溢微、西陇科学、成都炭材、木林升、奔朗新材、亦盛科技、中宝新材、贵研半导体、华熔科技、道川半导体材料、云升新材、昆吾、洽美斯、宇腾、晨科技、玻芯成、欧莱新材等;

半导体核心零部件及智能制造方案:中科仪、新松半导体、万瑞冷电、上银科技、新莱集团、灿锐科技、司倍克、基恩士、冠业传动、四达全、星奇半导体、有氟密、百士吉、高川自动化、德利克、清能德创、兆默半导体等;

*以上仅为部分参展企业,排名不分先后

半导体全链聚合,IICIE国际集成电路创新博览会9月深圳举办

2026-08-09

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